全球顶尖实验室培育钻石，突破散热、光学与量子计算极限
Karia 先进 CVD 钻石材料
- 产品介绍
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Karia Technologies 总部位于美国，是全球顶尖的实验室培育 CVD（化学气相沉积）钻石制造商，专注于为最严苛的科技应用提供先进材料。
具备突破业界标准的核心工艺优势：其单晶钻石（Single-Crystal Diamond）热导率高达 2000~2200 W/m·K，导热效能约为传统铜材的 5 倍。此外，Karia 克服了单晶生长的尺寸限制，能提供高达 25×25 mm 的一体成型晶圆，这是目前市场上商业供应最大、且非拼接铺砖的单晶规格。
超越传统材料的物理限制，Karia 致力于解决 AI 计算、次世代半导体、高频通信与前沿科学的技术瓶颈。我们坚持最高质量标准，每一件出厂的钻石产品（无论是基板、光学窗口或微粉）均随附完整的 Certificate of Analysis (CoA) 及相关物理、热学检验报告，为您的工程验证提供最可靠的数据支持。
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- 欢迎下载 Karia CVD 钻石产品手册，了解各产品的详细物理特性参数与应用案例。
钻石散热片与均热片 (Heat Sinks & Spreaders)： 专为 AI GPU、激光二极管与 RF 射频放大器设计。提供高达 1200–1800 W/m·K（多晶）及最高 2200 W/m·K（单晶）的极致热导率，散热效能最高可达铜的 12 倍，并提供即插即用的金属化涂层（Ti/Pt/Au 等）。
半导体基板 (Semiconductor Substrates)： 旗舰级 Type IIa 单晶与多晶 CVD 钻石晶圆。具备 5.47 eV 宽禁带，是 GaN-on-Diamond 晶体管、高压电力电子器件（耐受 400°C 以上结温）与先进外延生长的终极热管理平台。
量子钻石 (Quantum Diamonds)： 通过精准控制的氮空位（NV色心）特殊掺杂，提供长达毫秒级的 T₂ 相干时间。可选择高纯度同位素（¹²C ≥ 99.99%），为室温量子传感、量子通信与医疗单细胞生物学研究的核心材料。
掺硼钻石 (Boron-Doped Diamond, BDD)： 精准调控的 p 型半导体掺杂，赋予钻石优异的导电性。具备所有电极材料中最宽的电化学窗口（3.5V）与极低背景噪声。广泛应用于神经植入物、高难度水处理、环境传感器及超导量子器件。
光学窗口 (Optical Windows)： 单一材料即可涵盖自 UV 至远红外线（0.22–2500 µm）的超宽频透光率。结合极高硬度与抗化学性，成为高功率 CO₂ 激光、FLIR 热成像、同步辐射光束线与航空航天传感器的首选防护窗口。
钻石微粉 (Diamond Powders)： 粒径范围涵盖 0.1 µm 至 500 µm 的高精度合成钻石微粉。提供纯钻石或镍、钛、树脂涂层选项。适用于半导体 CMP 抛光、高性能热界面材料（TIM）填充物及高强度精密研磨切割工具。